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二次离子质谱(SIMS)的表面分析和深度剖析
二次离子质谱SIMS是一种检测固体表面及近表面的成分信息的技术,几乎能够分析任何真空下稳定的固体,其不仅能够做到从H到U的全元素及同位素分析,同时还可以分析原子团和官能团,并可以对固体进行微区分析成像和深度动态剖析。
2022-06-14
二次离子质谱(SIMS)技术是什么?
二次离子质谱(SIMS)是一种分析技术,可检测极低浓度的掺杂剂和杂质。 它可以在几纳米到几十微米的深度范围内提供元素深度分布。 SIMS通过用聚焦的初级离子束溅射样品表面来工作。在溅射期间形成的二次离子被提取并使用质谱仪分析。
2022-06-14
二次离子质谱(SIMS)技术的优势
对掺杂剂和杂质具有出色的检测灵敏度,对大多数元素具有ppma或更低的检测灵敏度,深度剖面具有出色的检测极限和深度分辨率,小面积分析(10μm或更大),出色的动态范围(高达7数量级),在某些应用中,主要元素组成可能。
2022-06-14
样品的检测周期
常规检测项目周期一般是3个工作日,方法开发/验证、以及加急项目请来电咨询:(0512)65101962。以上仅供参考,以具体需求和实际情况为准。
2022-06-14
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