二次离子质谱（SIMS）技术的优势
对掺杂剂和杂质具有出色的检测灵敏度，对大多数元素具有ppma或更低的检测灵敏度，深度剖面具有出色的检测极限和深度分辨率，小面积分析（10μm或更大），出色的动态范围（高达7数量级），在某些应用中，主要元素组成可能。
- 对掺杂剂和杂质具有出色的检测灵敏度，对大多数元素具有ppma或更低的检测灵敏度
- 深度剖面具有出色的检测极限和深度分辨率
- 小面积分析
- 检测所有元素和同位素，包括H.
- 出色的动态范围（高达7数量级）
- 在某些应用中，定量分析主量元素的含量
在SIMS分析过程中，样品被聚焦的高能主离子束（100 eV – 15 keV）溅射，或者是氧气（O2+）或铯（Cs+）。 在溅射过程中，一部分溅射材料被电离。 从表面提取这些二次离子，基于各个元素的独特质荷比进行质量分析，并作为二次离子强度收集。 由于元素周期表中的每个元素（和同位素）都具有独特的质荷比，因此该技术可以检测周期表中的每个元素。 可以基于参考标准的分析将二次离子强度转换成浓度。 通过连续监测离子，可以将浓度确定为样品深度的函数，对真正的深度分布具有最小的失真并且具有非常高的灵敏度（ppma至ppba）。
