二次离子质谱（SIMS）技术是什么？
二次离子质谱（SIMS）是一种分析技术，可检测极低浓度的掺杂剂和杂质。 它可以在几纳米到几十微米的深度范围内提供元素深度分布。 SIMS通过用聚焦的初级离子束溅射样品表面来工作。在溅射期间形成的二次离子被提取并使用质谱仪分析。
二次离子质谱（SIMS）是一种分析技术，可检测极低浓度的掺杂剂和杂质。 它可以在几纳米到几十微米的深度范围内提供元素深度分布。 SIMS通过用聚焦的初级离子束溅射样品表面来工作。 在溅射期间形成的二次离子被提取并使用质谱仪分析。 这些二次离子的范围可从基质水平降至十亿分之一（ppba）水平。
